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      數顯恒溫加熱臺在光刻工藝中的應用

      發布時間:2022-04-27   點擊次數:266次

      數顯恒溫加熱臺在光刻工藝的烘烤目的

      光刻光刻工藝中需要烘烤的步驟有:預烘培和底漆涂敷、軟烘烤、曝光后烘烤、硬烘烤。

      軟烘烤將光刻膠從液態轉變為固態,增強光刻膠在晶體表面的附著力;

      PEB(曝光后烘烤)的目的是降低駐波效應;

      硬烘烤的目的是除去光刻膠內的殘余溶劑、增加光刻膠的強度,并通過進一步的聚合作用改進光刻膠的刻蝕與離子注入的抵抗力,增強了光刻膠的附著力。

      數顯恒溫加熱臺的用途

      數顯恒溫加熱臺用于晶圓的單面烘烤,可用于預烘烤(Pre-bake),前烘(soft bake),底膠涂覆(Primer Vapor)和后烘烤(hardbake堅膜)工藝。適應于半導體硅片,載玻片,晶片,基片,ITO導電玻璃等工藝,制版的表面涂覆后,薄膜烘干,固化。熱板溫度穩定度高,重復性好。

      加熱面積尺寸:160mm*160mm、220mm*220mm,多尺寸定制  

      控溫范圍:室溫--200、300/400/500/600℃

      溫度分辨率 :0.1℃     

      溫度波動度:≤±0.5℃         

      溫度均勻性:≤±0.5/1℃ 

      可選配功能:

      支撐pin材料

      邊緣支撐pin

      N2吹掃,無氧化烘烤

      烘焙距離可調模組

      真空腔體

      智能型控制系統

       

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