• <em id="rn2gd"><acronym id="rn2gd"></acronym></em>
    1. <dd id="rn2gd"><center id="rn2gd"></center></dd>

      <tbody id="rn2gd"><noscript id="rn2gd"></noscript></tbody>
    2. 技術文章您的位置:網站首頁 >技術文章 > 光刻膠粘附力對MEMS工藝影響--HMDS處理設備

      光刻膠粘附力對MEMS工藝影響--HMDS處理設備

      發布時間:2022-05-09   點擊次數:265次

      光刻膠粘附力對MEMS工藝影響--HMDS處理設備

        在MEMS產品的研發過程中,在PZ層去膠之后發現有嚴重的側向腐蝕現象。這種現象可以直接從顯微鏡目檢中檢查出,而且在整個晶圓的表面呈現無規則的分布。同一批次的產品都會出現這種過腐蝕現象,同一片產品內部整個表面都存在這種過腐蝕現象,而并不是在晶圓的某些特殊區域或者特殊圖形出現。

        同樣,光刻膠的烘烤的溫度和時間,也不僅僅影響到光刻膠的黏附性問題,也會影響到光刻膠的形貌、光刻膠曝光能量等工藝參數。涂膠前處理的HMDS預處理只會影響到光刻膠與襯底之間的黏附性,對其他工藝參數的影響十分微小,這對于改善光刻膠與襯底之間的黏附性問題,是十分有利的。

        首先介紹一下HMDS涂布的原理,常用的黏附劑是六甲基二硅胺烷(HMDS)。在提升光刻膠的黏附性工藝中,實際上六甲基二硅烷并不是作為粘結劑所產生作用的,而是,HMDS改變了襯底的界面結構,從而使晶圓的性質由親水性表面轉變為疏水性表面。

        HMDS處理設備是采用蒸汽涂布的方式。簡單評價晶圓的表面黏附性好壞,可以將晶圓進行HMDS涂布,然后在晶圓的表面滴一滴水珠,然后通過測量水珠的接觸角,來進行晶圓表面黏附性好壞的判斷。當接觸角角度越大,說明黏附性越好,也就意味著疏水性越強。光刻膠與晶圓表面之間的黏附性問題,除了受到分子鍵合的影響,還受到其他重要因素的影響。如表面的水分就是其中的主要因素,會減少黏附性,從而造成掀膠和側向腐蝕。HMDS涂布是涂膠前對硅片表面進行處理,可以增加硅片表面水分子的接觸角,使硅片表面從親水性轉化為疏水性。

        結果表明HMDS處理設備的涂布時間是對接觸角角度的最主要的影響因素,但是涂布時間對于接觸角的影響并不是持續線性的,當涂布時間在55秒附近就會達到它的飽和點。為了達到接觸角角度最大,設備產能利用的平衡點(HMDS涂布單元時間過長,會變成設備的瓶頸單元,導致設備產能減少,從而相應的增加產品的生產成本),將HMDS涂布時間設置在一定值內。另一方面對于HMDS涂布的溫度來說,實驗結果與我們所預期的結果也是完全一致的,當溫度在某一高溫值的時候,接觸角的角度達到了峰值,當溫度繼續升高的話,反而會降低接觸角的角度。


      智能型HMDS真空系統

      智能型HMDS真空系統(JS-HMDS90-AI)用途:

         在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增黏劑 HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后,經系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。

      智能型HMDS真空系統(JS-HMDS90-AI)特點:

      HMDS 藥液泄漏報警提示功能

      HMDS低液位報警提示功能

      工藝數據記錄功能

      藥液管道預熱功能

      程序鎖定保護等功能

      智能型HMDS真空系統(JS-HMDS90-AI)技術性能:

      1.尺寸(深*寬*高)
      內腔尺寸:450×450×450(mm)(可定制)
      外形尺寸:750×1120×1650(mm)
      2. 材質
      外箱采用優質冷軋板噴塑,內箱采用 316L 醫用級不銹鋼
      3.溫度范圍
      RT+50-200℃
      4.溫度分辨率
      0.1℃
      5.溫度波動度
      ≤±0.5
      6 真空度
      ≤133pa(1torr)
      7.電源及總功率
      AC 220V±10% / 50HZ,總功率約 3.5KW
      8.控制儀表
      人機界面
      9.擱板層數
      2 層
      10.HMDS控制
      可控制HMDS 藥液添加量
      11.真空泵

      無油渦旋真空泵





      分享到:

      返回列表返回頂部
      COPYRIGHT @ 2016 網站地圖    滬ICP備16022591號-1   

      上海雋思實驗儀器有限公司主營產品:無氧化烘箱,精密熱風烘箱,晶元烘箱,百級氮氣烤箱,無氧烤箱
      地址:上海奉賢柘林工業區3213號

      環保在線

      推薦收藏該企業網站
      国产公共露出视频在线观看

    3. <em id="rn2gd"><acronym id="rn2gd"></acronym></em>
      1. <dd id="rn2gd"><center id="rn2gd"></center></dd>

        <tbody id="rn2gd"><noscript id="rn2gd"></noscript></tbody>