• <em id="rn2gd"><acronym id="rn2gd"></acronym></em>
    1. <dd id="rn2gd"><center id="rn2gd"></center></dd>

      <tbody id="rn2gd"><noscript id="rn2gd"></noscript></tbody>
    2. 產品中心您的位置:網站首頁 > 產品中心 > 半導體烘烤設備 > 無氧烘箱 > LCP膜專用高溫無氧烘箱-工業烘箱
      LCP膜專用高溫無氧烘箱-工業烘箱

      LCP膜專用高溫無氧烘箱-工業烘箱

      簡要描述:

      LCP膜專用高溫無氧烘箱LCP薄膜需要進行厚度組織重整及配套的熱處理優化,才能滿足高頻高速服役環境下的性能要求.

      LCP膜專用高溫無氧烘箱

       LCP薄膜具有介電常數低,介電損耗低、吸水率低、性能穩定的特性,是一種非常理想的5G高頻高速FCCL基材,可廣泛應用于5G手機天線、攝像頭軟 板、筆記本電腦高速傳輸線、智能手表天線等領域。

        5G手機天線材料的選擇除了考慮優異的性能外,成本也占有相當大的比重,LCP由于成本較高,也讓很多手機廠商望而卻步。目前行業最大的瓶頸在于:LCP膜樹脂以及如何做成薄膜產品。LCP薄膜需要進行厚度組織重整及配套的熱處理優化LCP膜專用高溫無氧烘箱,才能滿足高頻高速服役環境下的性能要求.


      高溫無氧真空烘箱,高溫無氧烘箱簡介
         無氧真空烘箱用于PI膠、BCB膠固化,LCP熱處理,鍵合材料預處理,ITO膜退火,PR膠排膠固化等特殊工藝。適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IC、PCB板、半導體封裝、醫藥、實驗室等生產及科研部門。
      高溫無氧真空烘箱,高溫無氧烘箱技術參數
      溫度范圍:RT ~400℃;
      溫度波動度:≤±1℃
      升溫速度:0-10℃/min;
      氧含量檢測:20ppm
      工作尺寸:定制

      降溫方式:輔助降溫;
      排 氣 口:2個;
      真空泵:渦旋干泵;



      HMDS烤箱,HMDS真空烘箱的由來

      半導體工藝中需要在各種襯底上進行光刻膠涂布,黏附性是否良好是最大的問題。黏附差導致嚴重的側面腐蝕,線條變寬,甚至有可能導致圖形全部消失,濕法刻蝕技術要求光刻膠與下面的襯底有很好的黏附性。

      提高光刻膠與襯底之間的黏附力有多個步驟:

      a、涂膠前進行脫水堅膜;

      b、使用黏附促進劑,即HMDS(六甲基二硅烷)增粘劑氣相涂布;

      c、高溫后烘。

      完成以上工藝僅用我司生產的HMDS真空烘箱即可。

      HMDS烤箱,HMDS真空烘箱

      溫度范圍:RT+10-250℃

      真空度:≤133pa(1torr)

      控制儀表:人機界面,一鍵運行

      儲液瓶:HMDS儲液量1000ml 

      真空泵:無油渦旋真空泵


      COPYRIGHT @ 2016 網站地圖    滬ICP備16022591號-1   

      上海雋思實驗儀器有限公司主要經營優質的LCP膜專用高溫無氧烘箱-工業烘箱等,歡迎來電咨詢LCP膜專用高溫無氧烘箱-工業烘箱詳細資料等信息
      地址:上海奉賢柘林工業區3213號
      国产公共露出视频在线观看

    3. <em id="rn2gd"><acronym id="rn2gd"></acronym></em>
      1. <dd id="rn2gd"><center id="rn2gd"></center></dd>

        <tbody id="rn2gd"><noscript id="rn2gd"></noscript></tbody>